最近在搞一款小功率電源,用的原本是 華微的管子,由于沒(méi)料,用威士的替代,最后效率能夠提升將近一個(gè)點(diǎn),輻射也有所改善.
大家是不是遇見(jiàn)過(guò)這種情況呢?來(lái)探討一下嘍。
電源技術(shù)探討 群號(hào):233403008
最近在搞一款小功率電源,用的原本是 華微的管子,由于沒(méi)料,用威士的替代,最后效率能夠提升將近一個(gè)點(diǎn),輻射也有所改善.
大家是不是遇見(jiàn)過(guò)這種情況呢?來(lái)探討一下嘍。
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amonson兄,您好!好久不見(jiàn)哦!最近做的是小功率的LED電源,感覺(jué)對(duì)于PF,EMI,效率要做折中選擇。否則,效率,PF值高,EMI裕量不足;如果EMI裕量足,PF,效率有所變低(相對(duì)來(lái)說(shuō))。
剛開(kāi)始搞EMI兩星期,感覺(jué)這個(gè)東西很神秘。有時(shí)可以測(cè)試通過(guò),有時(shí)不通過(guò)。同樣的機(jī)型,同樣的改法,有的能過(guò),有的就不過(guò)。
因?yàn)槭切」β孰娫?,EMI整改,調(diào)整的元器件或者參數(shù)就不多,感覺(jué)不是很好整改。
amonson兄,有哪些經(jīng)驗(yàn)分享一下嘍。
amonson兄,是單級(jí)PFC,英飛凌的TDA4862G,做的是12W電源。而且是低成本的,而且要求傳導(dǎo)和輻射都要求6dB的裕量以上。
最近整改的措施有以下幾點(diǎn):
1、最重要的:調(diào)整變壓器的繞法,(個(gè)人認(rèn)為堆疊繞法相對(duì)三明治繞法對(duì)EMI有改善,而且還需要外加屏蔽銅箔)
2、輔助VCC繞組的慢管改快管
3、增大MOS管的驅(qū)動(dòng)電阻
4、MOS的DS級(jí)間并高壓低容量陶瓷電容等措施
問(wèn)下,你這些措施是增加效率的還是改善EMI的?我的理解是加驅(qū)動(dòng)電阻是改善效率的,并DS兩端陶瓷電容有什么用?防止LC諧振?還是改善EMI?我現(xiàn)在遇到個(gè)情況,就是下面的取樣電阻電壓波形一開(kāi)始有個(gè)很大的尖峰,現(xiàn)在換了MOS管就尖峰變得很小,那這個(gè)是結(jié)電容影響的嗎?我懷疑有兩個(gè),一個(gè)是LC諧振了,另一個(gè)是結(jié)電容比較大,導(dǎo)通時(shí)結(jié)電容放電造成尖峰,我嘗試了在DS兩端并10nf的和160nf的電容,尖峰沒(méi)有什么變換,既沒(méi)有變小也沒(méi)有變大,我就無(wú)法理解了,求解惑。。。
并DS兩端陶瓷電容有什么用?防止LC諧振?還是改善EMI?我現(xiàn)在遇到個(gè)情況,就是下面的取樣電阻電壓波形一開(kāi)始有個(gè)很大的尖峰,現(xiàn)在換了MOS管就尖峰變得很小,那這個(gè)是結(jié)電容影響的嗎?我懷疑有兩個(gè),一個(gè)是LC諧振了,另一個(gè)是結(jié)電容比較大,導(dǎo)通時(shí)結(jié)電容放電造成尖峰,我嘗試了在DS兩端并10nf的和160nf的電容,尖峰沒(méi)有什么變換,既沒(méi)有變小也沒(méi)有變大,我就無(wú)法理解了,求解惑。。。