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有關AE電鍍電源和ENI電鍍電源

AE電源廣泛應用于以下制造市場,包括:
◆半導體(銅、鋁、鉭、鈦以及更新的異類材料)
◆平板顯示器(薄膜晶體管、彩色濾光片、有機 LED)
◆數據存儲(光存儲、磁存儲以及磁光存儲相結合)
◆太陽能光伏電池(透明導電氧化物和硅沉積)
◆玻璃鍍膜、裝飾薄膜及硬質薄膜
◆光學器件
◆先進產品應用(用于光學裝置、工具涂層、塑料等的薄膜)



ENI牌直流/脈沖功率電源 ,應用于生產集成電路,半導體,光電器件,存儲媒體(如光牒,光磁性材料) ,平板顯示器及增強涂料,以優(yōu)弧控制線路和0.01%低偏差率(重復性)改善整體流程.蝕刻等離子體產生器(RPG)能為物理氣相沉積(PVD),化學氣相沉積(CVD)偏壓及增強涂料應用提供非對稱雙極或單極脈沖電流. 蝕刻等離子體產生器能夠消除限制因素,使現有的物理氣相沉積工具制造出符合”下一代技術”需要的高質量,低損耗的薄膜產品.

ENI牌射頻功率電源
ENI牌射頻電源提供高可靠的固態(tài)電源,其頻率從 1MHz 到 60MHz, 功率從 3 百瓦至 13千瓦,還可選自動頻率調諧,廣泛地應用于 Etch, CVD 和 PVD等工藝.

詳細資料請查看 www.aeni.com.cn
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