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高標準的環(huán)保型電漿拋光設(shè)備

本設(shè)備具有以下特點:
  電漿拋光(EDTM)機的主要特點:
(1)根據(jù)工件尺寸的不同,可以使工件在幾十秒至2分鐘內(nèi)達到近鏡面的拋光效果,使後續(xù)處理十分方便;
(2)在拋光過程中有效去除衝壓件或其他製造件的邊角毛刺;
(3)拋光過程中使工件表面産生一層鈍化膜,使其保持耐久光亮,增強拋光面的抗腐蝕性能;
(4)拋光均勻程度優(yōu)越,整個工件表面甚至於所有死角部位都可達
到一致的鏡面效果;
(5)拋光過程由電參數(shù)控制,全過程採用進口PLC自動化控制,操作簡單,維護方便;
(6)生産效率高,生産成本低;
(7)拋光過程不産生化學(xué)污染【低濃度藥劑(95%~97%水+3%~5%的藥品,PH值約6.5~7)】.    
(8)清潔能力:EDTM系統(tǒng)不但定位爲快速拋光機構(gòu)之外,同時亦適合作爲各種形狀合金表面的去汙、除脂、去氧化層、清潔殘留雜質(zhì)及化學(xué)藥物,提供工件表面鍍膜前最優(yōu)質(zhì)的前置處理.
    如果有意討論或需購置此設(shè)備請與以下電話聯(lián)系:13790362898  信箱:hongca.g@163.com
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liangtz
LV.1
2
2007-04-02 22:43
你好.
本人對于該電漿拋光設(shè)備有興趣,請問幾多錢一臺?
       我的電話,13554911165
謝謝
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